SCHÄFER, Jan, Jaroslav HNILICA, Jiří ŠPERKA, Antje QUADE, Vít KUDRLE, Rüdiger FOEST, Jiří VODÁK a Lenka ZAJÍČKOVÁ. Tetrakis(trimethylsilyloxy)silane for nanostructured SiO2-like films deposited by PECVD at atmospheric pressure. Surface and Coatings Technology. Elsevier, roč. 295, 15 June 2016, s. 112-118. ISSN 0257-8972. 2016.
Další formáty:   BibTeX LaTeX RIS
Základní údaje
Originální název Tetrakis(trimethylsilyloxy)silane for nanostructured SiO2-like films deposited by PECVD at atmospheric pressure
Autoři SCHÄFER, Jan (203 Česká republika), Jaroslav HNILICA (203 Česká republika, domácí), Jiří ŠPERKA (203 Česká republika, domácí), Antje QUADE (276 Německo), Vít KUDRLE (203 Česká republika, garant, domácí), Rüdiger FOEST (276 Německo), Jiří VODÁK (203 Česká republika, domácí) a Lenka ZAJÍČKOVÁ (203 Česká republika, domácí).
Vydání Surface and Coatings Technology, Elsevier, 2016, 0257-8972.
Další údaje
Originální jazyk angličtina
Typ výsledku Článek v odborném periodiku
Obor Fyzika plasmatu a výboje v plynech
Stát vydavatele Velká Británie a Severní Irsko
Utajení není předmětem státního či obchodního tajemství
Kód RIV RIV/00216224:14310/16:00087594
Organizace Přírodovědecká fakulta – Masarykova univerzita – Repozitář
UT WoS 000376834700017
Klíčová slova anglicky Tetrakis(trimethylsilyloxy)silane; Tetrakis(trimethylsiloxy)silane; Plasma jet; Silicon dioxide
Návaznosti ED1.1.00/02.0068, projekt VaV. ED2.1.00/03.0086, projekt VaV. LO1411, projekt VaV. TE02000011, projekt VaV.
Změnil Změnil: RNDr. Daniel Jakubík, učo 139797. Změněno: 2. 9. 2020 10:05.
Anotace
We performed the thin films deposition using atmospheric pressure plasma enhanced chemical vapour deposition (AP-PECVD) by means of a radiofrequency and a microwave plasma jets operating with mixtures of argon and tetrakis(trimethylsilyloxy)silane (TTMS).
Typ Název Vložil/a Vloženo Práva
1-s2.0-S0257897215302851-main.pdf   Verze souboru 13. 5. 2016

Vlastnosti

Název
1-s2.0-S0257897215302851-main.pdf
Adresa v ISu
https://repozitar.cz/auth/repo/21906/285958/
Adresa ze světa
https://repozitar.cz/repo/21906/285958/
Adresa do Správce
https://repozitar.cz/auth/repo/21906/285958/?info
Ze světa do Správce
https://repozitar.cz/repo/21906/285958/?info
Vloženo
Pá 13. 5. 2016 00:50

Práva

Právo číst
  • kdokoliv v Internetu
Právo vkládat
 
Právo spravovat
  • osoba Mgr. Bc. Růžena Zemanová, uco 134451
  • osoba RNDr. Daniel Jakubík, uco 139797
Atributy
 
1-s2.0-S0257897215302851-main.pdf   Verze souboru 2. 9. 2020

Vlastnosti

Název
1-s2.0-S0257897215302851-main.pdf
Adresa v ISu
https://repozitar.cz/auth/repo/21906/899458/
Adresa ze světa
https://repozitar.cz/repo/21906/899458/
Adresa do Správce
https://repozitar.cz/auth/repo/21906/899458/?info
Ze světa do Správce
https://repozitar.cz/repo/21906/899458/?info
Vloženo
St 2. 9. 2020 10:05

Práva

Právo číst
  • kdokoliv v Internetu
Právo vkládat
 
Právo spravovat
  • osoba Mgr. Lucie Vařechová, uco 106253
  • osoba RNDr. Daniel Jakubík, uco 139797
  • osoba Mgr. Jolana Surýnková, uco 220973
Atributy
 
Vytisknout
Přidat do schránky Zobrazeno: 29. 3. 2024 16:41